· 仪器介绍：

Gatan氩离子抛光系统是一个用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备，以便样品在SEM及其它设备上进行检测分析。可利用IlionII进行抛光加工的材料种类十分广泛，包括由多元素组成的试样，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。

· 性能优点：

(1) 专利WhisperLok系统：无需破坏主腔室真空，样品交换时间小于1分钟；

(2) 低能聚焦潘宁离子枪：降低表面损伤，改善EBSD及CL等低能抛光技术下的实验成果；

(3) 能量从0.1到8.0kV可调：低能区减少非晶层，高能区大幅提高制样速度；

(4) 液氮冷台：消除热效应所产生的样品损伤；

(5) 10英寸彩色触摸屏控制：通过图形用户界面(GUI)，快速简便地访问所有的控制参数；

(6) 数码变焦显微镜：实时观察抛光过程；

(7) DigitalMicrograph软件彩照存储：能够将存储的光学图像以相同的格式与SEM数据一起使用。

· 技术指标：

· 主要应用：

       焊缝截面、集成电路焊点、多层薄膜截面、颗粒、纤维断面，复合材料、陶瓷、金属及合金、地质样品、岩石矿物及其他无机非金属等各种材料的SEM、EBSD样品。

· 测试案例：

· 附件下载：